良性腦膜瘤引起的原因目前主要認(rèn)為和以下幾種有關(guān)系:
一,電離輻射。隨著近年來(lái)電子產(chǎn)品應(yīng)用的增多,電離輻射對(duì)腦膜瘤的影響逐漸增大。目前腦膜瘤發(fā)病率呈逐年升高的趨勢(shì),與人們長(zhǎng)期應(yīng)用手機(jī),電腦等電子產(chǎn)品有很大的關(guān)系。
二,遺傳因素。腦膜瘤患者的直系親屬中患腦膜瘤的幾率要比普通人高2-3倍。
三,腦外傷因素。顱腦外傷以后,在腦組織、腦膜的修復(fù)過(guò)程中,有可能會(huì)出現(xiàn)基因突變,引起腦膜瘤的產(chǎn)生。